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氮化碳薄膜合成方法进展

黎明锴  彭友贵  
【摘要】:正氮化碳自从1989年由 Cohen 等预言以来研究人员先后用激光烧蚀、电子回旋共振—化学气相沉积(ECR-CVD)、热丝 CVD、反应磁控溅射等方法合成了氮化碳薄膜。其中,反应磁控溅射法由于成膜质量高且易于进行丁业化生产,所以近年来研究人员对用反应磁控溅射法合成氮化碳薄膜进行了许多研究。

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