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纳米压印光刻技术

范细秋  张鸿海  汪学方  贾可  刘胜  
【摘要】:传统的光学光刻技术由于受光波波长和数值孔径等因素的限制,难以制作成线宽小于100nm的图案。有可能成为下一代光刻技术的极紫外线光刻、X光光刻、电子柬投影等技术,虽然能克服线宽小于100nm时引起的衍射限制,但系统复杂,造价十分昂贵。纳米压印光刻是通过压印使抗蚀剂薄膜产生物理变形以实现抗蚀剂的图形化,因此其分辨率不受光的衍射和散射等因素的限制,因而可突破传统光刻工艺的分辨率极限。此外,还它可以大批量重复地在大面积上制备纳米图形结构。因此,纳米压印光刻是一种低制作成本和高生产效率的可获得100nm以下图案的较好的下一代方法。

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