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椭偏法测量AIN薄膜的光学常数

周杨  梁海锋  严一心  蔡长龙  
【摘要】:正氮化铝是Al-N二元系中唯一稳定的相,它具有电阻率高,热膨胀系数低,硬度高,化学稳定性好,热导率高等特点。此外,氮化铝从紫外到红外频段都具有很高的光学透射比,这些特性使氮化铝膜在微电子和光电器件等许多方面都有着十分广阔的应用前景。因此,对AlN薄膜光学常数的正确测量具有重要意义。本文采用真空磁过滤电弧离子镀法制备AlN薄膜,工艺参数为:工作气压P=1.3×10~(-1) Pa,靶电流I=75A,基底偏压U=50V,沉积时间t=5min。在测试AlN薄膜的光学常数时,结合沉积

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