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磁控溅射TaN_x/Ag/TaN_x低辐射复合膜的性能

吴萌  黄佳木  郝晓培  
【摘要】:本文以银靶和钽靶为靶材,N2为反应气体,室温下采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积TaNx/Ag/TaNx复合膜系。运用紫外可见分光光度计(UV-VIS)、表面轮廓仪、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、X射线衍射(XRD)等仪器对薄膜的各项性能进行检测分析。结果表明:TaNx溅射功率为80W,N2流量50sccm,溅射时间为40min条件下,结构为TaNx(60nm)/Ag(12nm)/TaNx(60nm)时,该复合膜系在波长550nm处的透过率达到了82%,远红外辐射率为0.087,并且具有很好的机械性能和化学稳定性。

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