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超声喷雾热解法制备SnO_2:F薄膜及性能表征

任洋  赵高扬  沈洁  
【摘要】:以五水四氯化锡为出发原料、甲醇为溶剂、氢氟酸为掺杂源,采用超声喷雾热解工艺在300mm×300mm的普通钠钙玻璃基板上制备了光电性能优良的F掺杂SnO_2薄膜,并对沉积薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性质以及电学性质进行了表征。结果表明,制备的SnO_2:F薄膜为四方相金红石结构的多晶膜,晶粒生长致密,薄膜表面光滑,薄膜电阻率为7.5×10~(-4)Ω·cm,平均可见光透过率达到83%,薄膜低辐射系数为0.14。

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