气氛对射频磁控溅射NiFe_2O_4薄膜性能的影响
【摘要】:首先采用固相反应法制备NiFe_2O_4溅射靶材,利用射频磁控溅射法在Si(100)基片上制备了NiFe_2O_4铁磁薄膜,并且研究了溅射气氛对薄膜性能的影响,溅射气氛包括Ar和O_2/Ar混合气体。结果表明,在两种不同气氛中沉积的薄膜样品都呈立方尖晶石结构,通入少量氧气之后,薄膜择优取向发生改变,并且磁性能得到改善,饱和磁化强度(M_s)为50emu/cm~3。
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