氧分压对反应磁控溅射ZrO_2薄膜光学透射率的影响
【摘要】：从氧空位、表面粗糙度及晶界三方面,讨论了氧分压对射频反应磁控溅射ZrO2薄膜光学透射率的影响。结果表明,随氧分压增大,氧空位的减少使单斜相逐渐占优,缺氧状况的改善使薄膜透射率逐渐升高;高氧分压下,出现颗粒聚集现象,表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集长大,使薄膜透射率下降。
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王晓霞,李红霞,张怀金,王继扬,沈明荣,方亮,宁兆元;气氛氧压对PLD法生长Nd∶LuVO_4薄膜的性能影响[J];中国稀土学报;2005年04期 |
| 2 |
李静;王智勇;何山;望咏林;武建华;陈洁;温培刚;;柔性基底AZO薄膜制备及其红外发射率身性能研究[J];材料工程;2009年S1期 |
| 3 |
杨兵初;高飞;刘晓艳;张丽;;氧分压对TiO_2薄膜微观结构与光吸收性能的影响[J];中南大学学报(自然科学版);2008年01期 |
| 4 |
戴邵康;于淼;陶伯万;高磊;;金属有机物化学气相法制备YBCO超导薄膜研究[J];低温与超导;2010年03期 |
| 5 |
吴茵;廖红卫;陈曙光;陈建兵;;氧分压对直流磁控溅射铟锡氧化物(ITO)导电薄膜结构和性能的影响[J];湖南有色金属;2007年02期 |
| 6 |
王英华;王新昌;李光明;张兵临;田永涛;姚宁;;氧分压对ZnO纳米结构的形貌及光学性能的影响(英文)[J];人工晶体学报;2009年01期 |
| 7 |
冯程程;周明;吴春霞;马伟伟;李刚;蔡兰;;氧分压对化学气相沉积法合成ZnO纳米结构形貌的影响[J];人工晶体学报;2009年03期 |
| 8 |
袁果;黎建明;张树玉;刘伟;闫兰琴;;氧分压对掺钼氧化铟透明导电薄膜光电性能的影响[J];功能材料与器件学报;2011年01期 |
| 9 |
高昶;赵晓辉;夏钰东;张飞;陶伯万;;高温热处理气氛对低氟MOD法制备YBCO超导薄膜的影响研究[J];低温物理学报;2011年01期 |
| 10 |
于威;陈明敬;高卫;滕晓云;傅广生;;氧分压对Zn_(0.99)Mn_(0.01)O稀磁薄膜结构和磁学特性的影响[J];河北大学学报(自然科学版);2011年02期 |
| 11 |
应春,沈杰,陈华仙,杨锡良,章壮健;ZnO∶Al透明导电薄膜的研制[J];真空科学与技术学报;1998年02期 |
| 12 |
朱家俊;周灵平;刘新胜;彭坤;李德意;李绍禄;;双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜粘结性能研究[J];人工晶体学报;2010年01期 |
| 13 |
杨建军;何欣;王燕斌;杨会生;;磁控溅射沉积氮化铝薄膜中等离子体光谱研究[J];西安工业学院学报;2005年06期 |
| 14 |
黄常刚;何智兵;王朝阳;唐永建;;反应磁控溅射制备高阈值激光反射膜的研究进展[J];材料导报;2006年S2期 |
| 15 |
甄恩明;徐雪青;徐刚;;软化学法制备VO_2热色薄膜的研究进展[J];材料研究与应用;2008年04期 |
| 16 |
刘星;马国佳;孙刚;段玉平;刘顺华;;不同工艺对TaN薄膜摩擦磨损性能影响研究[J];稀有金属材料与工程;2010年S1期 |
| 17 |
陈爽;余志明;刘凤举;方梅;;磁控溅射氧化钒薄膜的相组成及性能[J];中国有色金属学报;2008年12期 |
| 18 |
张小玲;孙晓冬;张凯;胡光;胡靖华;顾豪爽;;磁控溅射氮化铝薄膜取向生长工艺研究[J];武汉理工大学学报;2009年12期 |
| 19 |
张军;钟伟贵;范襄;邵乐喜;;射频反应溅射法制备SnO_(2-x)纳米薄膜的气敏特性研究[J];湛江师范学院学报;2009年03期 |
| 20 |
方应翠;朱仁胜;夏锡全;汪洪波;王旭迪;朱武;陈长琦;;反应磁控溅射沉积SiO_x薄膜制备镶嵌在二氧化硅介质中纳米晶硅不可行性研究[J];真空科学与技术学报;2009年05期 |
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