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Ge/Si多层膜的低角X射线衍射研究

王勇  杨宏卫  周卫  张怀若  杨宇  
【摘要】:用磁控溅射生长了5周期的Ge/Si多层膜和Ge_xSi_(1-x)单层膜,用计算机控制的衍射仪(CuK辐射)测量了X射线书衍射曲线,在Ge/Si多层膜衍射的布喇格衍射峰两侧发现了一系列次级衍射峰,在单层膜样品的低角X射线衍射中也发现了一系列小峰,我们对此现象进行了深入地探讨,并利用带折射修正的布喇格衍射定律和薄膜光学现象,对低角X射线衍射谱中出现的一系列现象进行了解释,并计算出了Ge/Si多层膜的周期厚度和周期中不同材料间的配比率及Ge_xSi_(1-x)单层膜的厚度.

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