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磁控溅射氧化钒薄膜的研究

吴志明  蒋亚东  牟宏  谢光忠  王波  
【摘要】:本文讨论了在低温磁控溅射沉积氧化钒薄膜的特性,采用金属钒作为靶材,利用反应磁控溅射工艺制备了氧化钒薄膜,在适当的Ar:O比例条件下,通过改变溅射总压,溅射时间,溅射温度等工艺参数,探索了氧化钒的成膜工艺.并分析了不同工艺条件对薄膜方阻,薄膜电阻温度特性的影响.最后对样品进行了XPS分析,结果表明适当控制溅射氧化钒的工艺条件可以在较低温度下形成VO_x,并具有较好的电特性.

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