脉冲激光沉积红外探测用PtSi/Si薄膜的组织结构与光电性能
【摘要】:利用脉冲激光沉积技术制备了高质量的PtSi/Si 纳米薄膜。采用X射线光电子能谱、原子力显微镜及高分辨电子显微镜等现代材料分析方法,研究了不同工艺参数薄膜的相形成、组分和界面结构,利用I-V 法和FTIR 法测量了样品的肖特基特性和红外吸收特性等光电性能。系统分析了工艺参数、界面结构与光电性能的关系。揭示了PtSi 纳米薄膜的形成条件及其界面结构对红外探测性能的影响规律。
【相似文献】 | ||
|
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
|
|||||||||||||||||||||
|
|
|||||||||||||||||||||
|
|
|||||||||||||||||||||
|
|
|||||||||||||||||||||
|