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反应磁控溅射Ti-Al-N薄膜的结构及光学特性研究

胡作启  李佐宜  熊锐  杨晓非  徐瑛  林更琪  胡用时  
【摘要】:采用反应磁控溅射方法制备了Ti-Al-N薄膜。光学特性和结构分析表明,当Ti-Al-N薄膜中Ti的含量x小于0.25时,其折射率大于2.10,光学透过率在75%以上;Ti-Al-N薄膜只显示Al基氮化物的闪锌矿结构,但晶格常数随Ti原子含量的增加而增大,X射线光电子能谱分析显示,Ti-Al-N薄膜有与AlN和TiN不同的电子结构特征。

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