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Ni—P薄膜中磷的不均匀性研究

乔学亮  许卫华  张振中  孙培祯  
【摘要】:正1前言随着电子、电器设备的日益增多,电磁干扰(EMI)和无线电频率干扰(RFI)日趋严重,极大地影响了电子产品的正常工作,为此必须采取相应的屏蔽措施。化学镀Ni—P合金是一种质优价廉的屏蔽材料,有广阔的应用前景。当Ni—P薄膜中的磷含量在3%左右时屏蔽效果最好,然而随着含磷量的增加其屏蔽效果降低。故深入研究Ni—P薄膜中磷的分布及影响因素对确保其屏蔽性能是非常必要的。

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