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非弹性散射对电子束在抗蚀层及衬底中散射轨迹影响的研究

鲁武  顾宁  陆祖宏  韦钰  
【摘要】:正1前言在电子束光刻领域,电子束扫描曝光过程也就是电子与抗蚀层及衬底中原子相互作用的过程,研究电子与抗蚀层及衬底中原子的散射效应有着重要的理论及实际意义。它本身是一个很复杂的过程,包括了弹性散射和非弹性散射两种,非弹性散射又有3种形式:单电子激发、等离子元激发和声子激发。许多作者曾用Monte Carlo方法计算了电子在固体中散射轨迹和能量损失轮廊。但他们在计算中大都忽略了非弹性散射对散射角及散射平均自由程的影响。本文从理论上探讨了这个问题。

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