电弧离子镀AIN薄膜的光致发光性能的研究

【摘要】：在电弧离子镀弧靶前加挡板以去除大颗粒污染,分别在Si(100)基底上制备非掺杂的纯AlN薄膜,在石英玻璃基底上制备Cu掺杂的AlN薄膜.用X射线衍射(XRD)分析表明,纯AlN膜为弱(100)多晶织构,而掺Cu的AlN薄膜为非晶结构;X射线光电子能谱(XPS)研究表明,Cu掺杂AlN薄膜中,Cu为+1价,原子百分含量为11%;光致发光谱显示纯AlN薄膜发紫光(～400nm),Cu掺杂的AlN薄膜发蓝光(～450nm).

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3	王宁;魏朝阳;邵建达;范正修;易葵;;电子束自动扫描SiO_2材料沉积速率控制实验研究[J];中国激光;2010年10期
4	黄美东,孙超,董闯,黄荣芳,闻立时;电弧离子镀中不同偏压模式对TiN薄膜形貌的影响[J];真空;2001年03期
5	秦聪祥;曾鹏;胡社军;汝强;;离子束辅助沉积对TiAlSiN薄膜性能的影响[J];钛工业进展;2006年02期
6	孙亦宁;;化学气相沉积金刚石薄膜[J];真空与低温;1988年04期
7	林国强;电弧离子镀硬质梯度薄膜技术[J];真空科学与技术学报;2002年03期
8	张平;杜军;田飞;蔡志海;;脉冲偏压离子镀的研究现状[J];装甲兵工程学院学报;2009年02期
9	邱万奇;阎明;;电弧离子镀制备透明(002)AlN薄膜[J];稀有金属材料与工程;2009年S1期
10	邱万奇;蔡明;钟喜春;余红雅;刘仲武;曾德长;;电弧离子镀AlN薄膜的光致发光性能的研究[J];材料研究与应用;2010年04期
11	李鹏;黄美东;佟莉娜;张琳琳;王丽格;李晓娜;;磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较[J];天津师范大学学报(自然科学版);2011年02期
12	杨世伟;曾立云;王艳华;刘海涛;;(Ti,Al)N梯度薄膜中的残余应力分析[J];材料热处理学报;2006年03期
13	曲燕青;聂朝胤;陈志谦;;电弧离子镀工艺参数对CrSiN薄膜性能影响的研究[J];西南师范大学学报(自然科学版);2006年03期
14	张晓柠;陈康敏;郑陈超;黄燕;关庆丰;宫磊;孙超;;脉冲偏压对电弧离子镀CrN_x薄膜组织结构与性能的影响[J];航空材料学报;2010年05期
15	陈康敏;张晓柠;郑陈超;黄燕;关庆丰;宫磊;孙超;;氮气分压对电弧离子镀CrN_x薄膜组织结构的影响[J];真空科学与技术学报;2010年06期
16	洪惠荫;胡永年;张世良;孙玉珠;任妮;瞿晓明;;LSA—1型电弧离子镀膜机[J];真空与低温;1989年04期
17	吴奎;叶勤;;射频溅射法和电弧离子镀法制备的纳米TiO_2薄膜性能比较[J];暨南大学学报;2006年03期
18	张敏;林国强;董闯;闻立时;;脉冲偏压电弧离子镀室温沉积非晶TiO_2薄膜[J];金属学报;2007年05期
19	李红凯;林国强;董闯;;脉冲偏压电弧离子镀CN_x薄膜研究[J];物理学报;2008年10期
20	郎文昌;肖金泉;宫骏;孙超;黄荣芳;闻立时;;轴对称磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响[J];金属学报;2010年03期

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前4条

1	邱万奇;蔡明;钟喜春;余红雅;刘仲武;曾德长;;电弧离子镀AIN薄膜的光致发光性能的研究[A];低碳技术与材料产业发展研讨会论文集[C];2010年
2	李晨;陈焘;王多书;张平;;硅碳氧薄膜光学性能研究[A];第三届空间材料及其应用技术学术交流会论文集[C];2011年
3	李广;殷景华;刘晓旭;冯宇;田付强;雷清泉;;组分对PI/AlN纳米复合薄膜微结构与介电性能影响研究[A];第十三届全国工程电介质学术会议论文集[C];2011年
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前3条

1	吴琼;谈谈陶瓷湿度传感器及其发展动向[N];北京电子报;2001年
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3	方方;凹印塑料薄膜质量标准与质量控制[N];中国包装报;2011年

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