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原子层沉积(ALD)系统的研究

叶位彬  黄光周  朱建明  戴晋福  
【摘要】:正1.原子层沉积技术原理原子层沉积(Atomic Layer Deposition)是上世纪70年代,由Suntola提出来,最早的应用是沉积TFEL平板显示器的介质和发光薄膜材料。随着集成电路的发展,在上世纪90年代中期,ALD技术在半导体工艺上受到重视。但由于ALD的沉积速率(一般为100-300nm/h)

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