高离化脉冲磁控放电与溅射技术

【摘要】：高离化率脉冲磁控溅射技术(HIPMS)作为一种溅射粒子离化率高、可以沉积致密、高性能薄膜的新技术已经在国外广泛研究,但在国内尚未见研究报道。本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电荷数高、成膜离子比例大、离子能量高等。HPPMS技术制备的薄膜由于受到高能离子轰击,更加致密、缺陷少、表面光滑,进而表现出较高的硬度、结合力、耐磨性、耐腐蚀性,以及抗高温氧化性能。最后介绍了我们研究所开发的高离化率复合脉冲磁控溅射电源及HIPMS实际应用的一些成功案例。