磁控溅射锆钒合金膜

【摘要】：正蒸发成膜合金中的各成分蒸发速率为GA=7．714XAPA(MA/T)1/2,GA为合金中A成分的蒸发速率,g/cm2·s; XA为合金中A成分的摩尔分数;PA为A物质的纯蒸气压,Pa;MA为A物质的分子量;T为温度,K。相同温度下V的蒸气压比Zr的高2-3个量级。由蒸发速率GA可知,ZrV2合金采用蒸发成膜存在固

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中国期刊全文数据库

前20条

1	张天伟;杨会生;罗庆洪;王燕斌;陆永浩;;等离子体辅助ITO薄膜低温生长[J];真空科学与技术学报;2008年S1期
2	林晶;刘壮;孙智慧;高德;;氧化铝薄膜磁控溅射工艺参数对PET基体温度的影响[J];包装工程;2008年10期
3	范芸;唐武;翁小龙;邓龙江;;柔性衬底WO_x-Mo薄膜电致变色性能研究[J];稀有金属材料与工程;2009年09期
4	王剑锋;宋忠孝;徐可为;范多旺;;磁控溅射氮分压对Nb-Si-N薄膜结构和性能的影响[J];稀有金属材料与工程;2006年06期
5	徐政;俞晓正;蔡楚江;沈志刚;;空心微珠表面磁控溅射和化学镀金属膜的特性比较[J];过程工程学报;2006年S2期
6	陈祝;张树人;杜善义;杨成韬;陈富贵;董加和;孙明霞;;c轴择优取向ZnO薄膜RF溅射工艺研究[J];压电与声光;2007年03期
7	章平;黄致新;张玉龙;王辉;张峰;;Sm取代Tb(Dy)对RE-TM薄膜磁光性能的影响[J];广西师范学院学报(自然科学版);2007年02期
8	姚固文;李长生;张晔;;磁控溅射MOS_2/Ni复合膜的制备及其摩擦性能[J];机械工程材料;2007年04期
9	马志伟;张铭;王波;严辉;;工作气压对磁控溅射Ta_2O_5薄膜电学性能的影响[J];河南师范大学学报(自然科学版);2007年04期
10	郝万顺;吴志明;王涛;王秋来;黄文符;;一种全靶腐蚀磁控溅射设备[J];真空;2007年06期
11	黄致新;章平;张玉龙;王辉;吴斌;张锋;李佐宜;;制备工艺及参数对TbCo薄膜垂直磁各向异性能的影响[J];稀有金属材料与工程;2007年11期
12	杨爱国;杨子健;杨建红;冯浩;李冠斌;崔敬忠;;掺杂氧化钒薄膜的制备及其热光特性[J];半导体光电;2008年02期
13	陈省区;王德苗;赵欢畅;任高潮;;磁控溅射抗EMI金属膜的研究[J];真空;2008年03期
14	苑永涛;方敬忠;刘红;陈志强;;Cu/Zr纳米多层膜微结构与力学性能[J];光电工程;2008年10期
15	邱清泉;励庆孚;苏静静;Finley Jim;;工作参数对平面磁控溅射系统沉积速率的影响[J];真空科学与技术学报;2009年01期
16	孙建;李长生;金岚;唐华;张叶;李学超;;磁控溅射MoS_2/WS_2复合薄膜的工艺与摩擦学性能研究[J];真空科学与技术学报;2009年04期
17	卢勤;李化鹏;陈希明;;沉积工艺参数对AlN薄膜择优取向影响的实验研究[J];天津理工大学学报;2009年05期
18	王辉;袁玉珍;张化福;刘汉法;刘云燕;刘俊成;;Al-Zr共掺杂ZnO透明导电薄膜制备及光电性能研究[J];光电子.激光;2009年12期
19	刘汉法;张化福;袁玉珍;袁长坤;类成新;;直流磁控溅射法低温制备ZnO:Ti透明导电薄膜及特性研究[J];液晶与显示;2009年06期
20	封顺珍;徐芹;东艳晖;彭燕;郭小方;孙会元;;Ag层厚度对Ag/Fe/Ag薄膜的微结构和磁特性的影响[J];河北师范大学学报(自然科学版);2010年02期

中国重要会议论文全文数据库

前10条

1	梁建华;赵鹏冀;郝万立;施立群;;磁控溅射锆钒合金膜[A];中国工程物理研究院科技年报（2005）[C];2005年
2	徐政;俞晓正;沈志刚;;用磁控溅射方法在空心微珠表面镀纳米铜膜的研究[A];第八届全国颗粒制备与处理学术和应用研讨会论文集[C];2007年
3	刘艳涛;马剑平;;基于Atemga128的磁控溅射镀膜机(英文)[A];真空技术与表面工程——第九届真空冶金与表面工程学术会议论文集[C];2009年
4	吴萌;黄佳木;郝晓培;;磁控溅射TaN_x/Ag/TaN_x低辐射复合膜的性能[A];2011中国功能材料科技与产业高层论坛论文集（第二卷）[C];2011年
5	黎明锴;彭友贵;;氮化碳薄膜合成方法进展[A];第十一届全国核物理大会论文集[C];2000年
6	姚为;吴爱萍;邹贵生;任家烈;;Ti表面磁控溅射Nb膜的研究[A];中国真空学会2006年学术会议论文摘要集[C];2006年
7	林晶;刘壮;孙智慧;高德;;负偏压对PET上磁控溅射氧化铝薄膜的影响[A];中国真空学会2008学术年会论文集[C];2008年
8	林晶;刘壮;孙智慧;高德;;负偏压对磁控溅射氧化铝薄膜的影响[A];中国真空学会2008年学术年会论文摘要集[C];2008年
9	王军生;童洪辉;赵嘉学;韩大凯;戴彬;;影响磁控溅射均匀性的因素[A];第十三届全国等离子体科学技术会议论文集[C];2007年
10	朱秀榕;赖珍荃;刘倩;范定寰;李海翼;;直流反应磁控溅射氮化钛薄膜及其性能的研究[A];第十七届十三省（市）光学学术年会暨“五省一市光学联合年会”论文集[C];2008年

中国博士学位论文全文数据库

前10条

1	常学森;基于磁控溅射方法制备二氧化钛薄膜及其亲水特性研究[D];东北大学;2007年
2	吴文娟;极紫外和软X射线窄带多层膜的研究[D];同济大学;2007年
3	李竹影;WO_3薄膜及器件的电致变色性能研究[D];华中科技大学;2005年
4	许旻;氧化钒薄膜结构和性能研究[D];兰州大学;2006年
5	刘超卓;含氦钛膜的制备、表征及退火行为研究[D];复旦大学;2007年
6	周玉锋;反应烧结碳化硅基底致密层制备及性能研究[D];哈尔滨工业大学;2008年
7	万红;TbDyFe薄膜的磁致伸缩性能及其与弹性、压电衬底复合效应研究[D];国防科学技术大学;2005年
8	刘毛;铪基高介电常数栅介质薄膜的制备及其物性研究[D];中国科学院研究生院（合肥物质科学研究院）;2007年
9	徐静;磁控溅射SiO_2基LaB_6薄膜的制备工艺及性能[D];山东大学;2009年
10	韦春贝;磁控溅射TiN/Cu-Zn抗菌纳米多层膜与复合膜制备及性能[D];哈尔滨工业大学;2009年

中国硕士学位论文全文数据库

前10条

1	王强;VLSI工艺中铝互连与蚀刻的研究[D];电子科技大学;2005年
2	黄伟霞;Mg_xZn_（1-x）O透明导电薄膜的制备及性能研究[D];浙江大学;2006年
3	高坤;近等原子比TiNi合金薄膜的制备与马氏体相变机理的研究[D];西安理工大学;2006年
4	李小娟;SnO_2材料的第一性原理研究及其薄膜制备[D];燕山大学;2008年
5	卢振伟;硅基氧化钨薄膜的制备及其性质研究[D];烟台大学;2009年
6	闫锋;射频磁控反应溅射法制备Y_2O_3薄膜的研究[D];西北工业大学;2006年
7	关丽秀;P型氧化锌薄膜的制备和性能[D];吉林大学;2006年
8	刘亮;DLC基固体润滑复合薄膜制备及性能表征[D];哈尔滨工程大学;2008年
9	王艳;磁控溅射SiGe薄膜的制备工艺及性能研究[D];太原科技大学;2011年
10	郑小秋;磁致冷材料Gd表面保护膜的制备及其附着性能研究[D];西华大学;2006年

中国重要报纸全文数据库

前2条

1	云晓君;水性软包装复合用粘合剂的干燥技术[N];中国包装报;2008年
2	许俊强;水气透过率测定仪在软包装检测中的应用[N];中国包装报;2005年

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