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Al和CH靶辐射烧蚀的数值模拟

盛家田  曾先才  李沄生  
【摘要】:正在ICF间接驱动内爆压缩过程中,辐射场对靶丸的烧蚀起决定作用。为获得靶丸高压缩比,除要求腔内辐射场随时间和空间变化均匀外,还要仔细研究在一定辐射场情况下,辐射对靶丸的烧蚀规律。为了降低Au薄膜在膨胀过程中过快消耗辐射能量,采用热传导性能比较好的CH塑料作阻挡层。为获得较好的平衡黑体辐射源以及减弱腔内直穿光对台阶靶出界面

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