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采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜

孙维连  杨钰瑛  李新领  
【摘要】:为了沉积高质量的硬质薄膜,避免直流反应溅射出现的靶中毒和打火现象影响薄膜质量和色彩。采用中频反应磁控技术在不锈钢基体上沉积氮化锆薄膜。实验表明,当炉内氮分压为45%,控制靶电压200 V,靶电流为25 A,逐步调节Ar/N2比例达到要求的真空炉内气氛浓度,可获得成分均匀,膜层致密,与基体结合牢固的金黄色氮化锆薄膜。

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