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离子注入新技术

席世涓  
【摘要】:正五十年代到六十年代中,由于半导体技术迅速发展到大规模的集成电路时代,古典的扩散掺杂不能满足要求,取而代之的则是离子注入法。1970年访英国Harwell研究所,美国海军研究所首先将此技术用于半导体以外的材料。七十年代中期以后离子注入新技术才得到迅速发展。至今不论从方法上或是从应用领域上都已层出不穷。

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