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应用低价硫化铝法生成铝膜的研究

吴国元  戴永年  杨宇  郑保忠  吴兴惠  
【摘要】:正制取铝镀层的方法很多,其中利用化学气相沉积镀铝是最重要的方法之一,化学气相沉积法是一种借助于高温化学反应的、由气相生长固体物质的薄膜成长法。但是现有的CVD法镀铝存在着很大的缺点:铝及铝化合物薄膜的生成反应温度都很高,或者低温度的反应其源的组成又较复杂。高

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