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Si/Ge纳米材料的热稳定性研究

杨宇  赵鹤云  吴国元  郑保忠  周湘萍  张树波  吴兴惠  
【摘要】:正本文报道了磁控溅射制备Si/Ge纳米薄膜材料的热稳定性研究。在加工Si靶、Ge靶及SiGe复合靶的实验基础上,采用磁控溅射生长技术,于玻璃衬底和Si衬底上,制备了一系列Si/Ge多层膜材料,X射线小角衍射测量了不同溅射压强、不同衬底温度下制备的样品,通过计算机模拟实

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