三价铬溶液电镀硬铬

【摘要】：一项新的三价铬电镀工艺已经开发出来。此项工艺允许连续20多个小时快速沉积反应。形成厚度为450微米,硬度为1200维氏的镀层。此项工艺研究了铬液浓度、多种羧酸、一组缓冲剂、温度和溶液pH值这些因素对沉积速度、镀层厚度和连续电镀能力的影响。研究发现:正常的三价铬沉积会因阴极上氧氧化铬(三价)的不断形成和沉淀而逐渐变得速度缓慢(此速度无法满足生产)或因pH值的升高而完全停止反应。此项三价铬电镀工艺的成功在于使用了羧酸作为络合剂来提高铬沉积反应,同时使用了一组缓冲剂,包括硼酸、铝盐和其他羧酸,保持溶液在一定的范围内足够的稳定,以此;来阻止氢氧化铬在阴极表面的沉积。在此工艺中,必须用离子交换膜来将阳极区和阴极区分开,以阻止在阳极区的溶液各组分的氧化,保持溶液各组分的稳定,在较长的时间内维持高速沉积。在适当的温度范围内,镀层的硬度经热处理后,硬度会有大幅地提高。