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ICP刻蚀对p-GaN表面改性及接触的影响

邓俊静  齐胜利  陈志忠  田朋飞  郝茂盛  张国义  
【摘要】:采用不同条件的等离子体(O_2、Cl_2)对p-GaN样品进行刻蚀,通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)、阴极荧光谱(CL)、光致发光光谱(PL)、电流电压(I-V)等方法详细研究了等离子体刻蚀对p-GaN表面改性及接触的影响。研究发现,经O_2等离子体刻蚀后,样品的Ga/N降低,PL谱的蓝带发生蓝移,说明刻蚀减小了p-GaN中与Mg相关的自补偿作用,使得更多的Mg原子起到受主作用。另外,样品经O_2等离子体处理后在表面形成了一层严重影响接触欧姆特性的氧化层,但此氧化层可经Cl_2等离子体刻蚀后得到有效的去除。

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