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RF及VHF溅射系统中离子能量分布的实验研究

黄福培  叶超  何海杰  刘毅  宁兆元  
【摘要】:正引言在磁控溅射沉积薄膜时,薄膜的生长,结晶、成分、结构的控制,以及力学、光学性能等均决定于等离子体中离化基团的比例,而离化基团的比例与离子能量分布密切相关,通过提高溅射频率来调控离子能量分布,成为控制离化基团比例的可能途径。本文采用拒斥场能量分析技术研究了RF及VHF溅射系统中的离子能量分布(IEDs)。

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