收藏本站
《2009年先进光学技术及其应用研讨会论文集(上册)》2009年
收藏 | 手机打开
二维码
手机客户端打开本文

LPCVD制备微晶硅薄膜及热处理工艺研究

袁媛  耿学文  李美成  
【摘要】:采用低压化学气相沉积(LPCVD)方法在单面抛光的n型(100)4寸硅片上沉积了微晶硅薄膜,沉积薄膜前用湿氧氧化法在硅片表面氧化SiO2层作为扩散阻挡层。用普通氧化铝管式炉加热处理制成的微晶硅薄膜制备多晶硅薄膜。选取了650℃、800℃、950℃及1100℃做为退火温度,保护气氛为高纯Ar气,退火时间2h。用拉曼(Raman)光谱和X射线衍射(XRD)曲线表征薄膜的二次晶化状态,用扫描电镜(SEM)分析薄膜的表面形貌。

手机知网App
【参考文献】
中国期刊全文数据库 前2条
1 王季陶,承焕生,吴宪平,吕以金;SiCl_4/SiH_4-NH_3体系的低压化学蒸汽淀积(LPCVD)氮化硅薄膜研究[J];半导体学报;1981年01期
2 张国炳,郝一龙,田大宇,刘诗美,王铁松,武国英;多晶硅薄膜应力特性研究[J];半导体学报;1999年06期
【共引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 李爱侠,孙大明,孙兆奇,宋学萍,刘艳美,赵宗彦,杨坤堂;退火温度对Ag-MgF_2颗粒膜结构和内应力的影响[J];安徽大学学报(自然科学版);2002年04期
2 王敏良;孔德海;;集成电路电磁骚扰测试方法[J];安全与电磁兼容;2007年01期
3 程东明;杜艳丽;马凤英;段智勇;郭茂田;赵传奇;罗荣辉;弓巧侠;杨静;;光纤耦合模块中光纤焊接技术的研究[J];半导体光电;2007年04期
4 李伯海;秦福文;吴爱民;王艳艳;徐茵;顾彪;;多晶硅沉积工艺中中间层对多晶硅质量的影响[J];半导体光电;2007年05期
5 向鹏飞;袁安波;杨修伟;高建威;;CCD多晶硅刻蚀技术研究[J];半导体光电;2010年06期
6 曾庆高;离子注入浅结制备技术[J];半导体光电;1994年02期
7 刘玉岭,单富洲,徐晓辉,庄天,张德臣;提高硅CVD外延参数的新技术研究[J];半导体技术;1995年01期
8 敬小成,姚若河,吴纬国;二氧化硅干法蚀刻参数的优化研究[J];半导体技术;2005年06期
9 彭志辉,黄其煜;半导体代工厂的特气供应系统探讨[J];半导体技术;2005年08期
10 薛向东;吴黎明;邓耀华;伍冯洁;何仲凯;;IC晶片关键尺寸标定的新方法研究[J];半导体技术;2005年12期
中国重要会议论文全文数据库 前4条
1 田桂;朱嘉琦;韩杰才;贾泽纯;姜春竹;;衬底温度对磁控溅射硅薄膜结构性能的影响[A];第十五届全国复合材料学术会议论文集(上册)[C];2008年
2 江轩;;半导体行业用靶材及蒸发源材料[A];集成电路配套材料研讨会及参展资料汇编[C];2004年
3 谭刚;吴嘉丽;;硅衬底的化学机械抛光工艺研究[A];第七届青年学术会议论文集[C];2005年
4 王海珍;陈程远;何英杰;刘虹波;;聚酰亚胺涂料在微细加工中的应用[A];2007年红外探测器及其在系统中的应用学术交流会论文集[C];2007年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 陈文昱;浸没式光刻中浸液控制单元的液体供给及密封研究[D];浙江大学;2010年
2 孙禹辉;硅片化学机械抛光中材料去除非均匀性研究[D];大连理工大学;2011年
3 闻心怡;铁电存储器关键工艺与器件建模研究[D];华中科技大学;2011年
4 刘秉策;ZnO/Si异质结构晶界行为及其载流子输运机制研究[D];中国科学技术大学;2011年
5 何子安;玻璃基质光波导及其掺铒波导光放大器的离子交换法制备[D];复旦大学;2008年
6 张磊;有机电致发光显示屏的制备及其漏电流研究[D];电子科技大学;2010年
7 朱祥龙;300mm硅片超精密磨床设计与开发[D];大连理工大学;2011年
8 徐驰;基于摩擦力在线测量的化学机械抛光终点检测技术研究[D];大连理工大学;2011年
9 陆向宁;基于主动红外热成像的倒装焊缺陷检测方法研究[D];华中科技大学;2012年
10 刘传珍;低温多晶硅材料及其器件的研究[D];中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;2000年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 张秀芳;硅、锗切割片的损伤层研究[D];浙江理工大学;2010年
2 赵海轩;超精密磨削硅片变形规律的研究[D];大连理工大学;2010年
3 于祝鹏;穿通结构三极管BV_(CEO)仿真分析及一致性提高研究[D];电子科技大学;2010年
4 赵金余;光刻机浸没单元的流场检测与结构优化[D];浙江大学;2011年
5 巴静;基于PVDF的光刻机流场压力检测方法的研究[D];浙江大学;2011年
6 向莉;H桥功率驱动电路设计及其BCD工艺平台开发[D];电子科技大学;2011年
7 游佩武;汽车雪崩整流二极管研制[D];沈阳工业大学;2011年
8 孙瑞;100KPa多晶硅纳米膜压力芯片研究[D];沈阳工业大学;2011年
9 刘振;Small Tools结构设计与分析[D];吉林大学;2011年
10 曹英丽;超低表面反射率单晶硅片制备方法的研究[D];大连理工大学;2011年
【二级参考文献】
中国期刊全文数据库 前1条
1 承焕生;汤家镛;徐志伟;杨福家;赵国庆;周筑颖;;用背散射进行物质分析[J];复旦学报(自然科学版);1979年02期
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 丁成玉;LPCVD系统平均自由程影响及其工艺条件的计算[J];电子学报;1981年06期
2 李星文,王英民;激光增强LPCVD多晶硅[J];河北大学学报(自然科学版);1982年02期
3 帧馨峨;LPCVD工艺—用20%、50%浓度的硅烷淀积多晶硅的工艺报告[J];半导体技术;1986年01期
4 李祥轩,撒应虎;LPCVD膜层均匀性机理[J];半导体技术;1984年02期
5 刘渝珍,石万全,韩一琴,刘世祥,赵玲莉,孙宝银,叶甜春,陈梦真;LPCVD氮化硅薄膜的室温可见光发射[J];半导体学报;2000年05期
6 孙国胜,罗木昌,王雷,朱世荣,李晋闽,林兰英;Si(001)衬底上方形3C-SiC岛的LPCVD生长[J];材料科学与工艺;2001年03期
7 葛其明,刘学建,黄智勇,蒲锡鹏,黄莉萍;SiH_4-NH_3-N_2体系LPCVD氮化硅薄膜的生长动力学[J];电子元件与材料;2003年10期
8 宋玲;廖炼斌;张勇;罗卫国;;LPCVD设备的高精度串级温度控制系统[J];电子工业专用设备;2006年04期
9 张声良,刘新明,贾全喜,刘恩科;多用途LPCVD/PECVD薄膜淀积设备的试制与其薄膜性能的研究[J];半导体技术;1987年04期
10 初桂珍;超薄LPCVD二氧化硅膜栅介质[J];微电子技术;1994年02期
中国重要会议论文全文数据库 前10条
1 袁媛;耿学文;李美成;;LPCVD制备微晶硅薄膜及热处理工艺研究[A];2009年先进光学技术及其应用研讨会论文集(上册)[C];2009年
2 胡淑芬;;LPCVD in-situ Growth of Silicon Quantum Dots in Si_3N_4[A];中国颗粒学会第七届学术年会暨海峡两岸颗粒技术研讨会论文集[C];2010年
3 刘振淮;史舸;王文卫;王文;;TEOS LPCVD工艺在硅片封闭技术中的应用[A];2004年中国材料研讨会论文摘要集[C];2004年
4 陈玖香;张受业;陈强;;多孔空心阴极等离子体增强化学气相沉积制备高晶化率微晶硅薄膜[A];第十五届全国等离子体科学技术会议会议摘要集[C];2011年
5 岳红云;吴爱民;张学宇;胡娟;李廷举;;ECR-PECVD法低温制备微晶硅薄膜及其结构研究[A];TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2009年
6 陈大鹏;叶甜春;谢常青;李兵;赵玲利;韩敬东;胥兴才;胥俊红;陈昭辉;;氮化硅X射线光刻掩膜[A];2000年材料科学与工程新进展(上)——2000年中国材料研讨会论文集[C];2000年
7 刘振淮;史舸;王文卫;王文;;TEOS LPCVD工艺在硅片封闭技术中的应用[A];2004年材料科学与工程新进展[C];2004年
8 张锡健;马洪磊;王卿璞;马瑾;宗福建;肖洪地;计峰;;退火温度对射频磁控溅射法生长的Mg_(0.16)Zn_(0.84)O薄膜性质的影响[A];第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅲ[C];2004年
9 欧阳中亮;郭立平;黎明;叶舟;施训;艾志伟;彭挺;付德君;杜红林;陈海英;C.X.Liu;;离子注入制备Si基稀磁半导体研究[A];2008年全国荷电粒子源、粒子束学术会议暨中国电工技术学会第十二届电子束离子束学术年会、中国电子学会焊接专业委员会第九届全国电子束焊接学术交流会、粒子加速器学会第十一届全国离子源学术交流会、中国机械工程学会焊接分会2008年全国高能束加工技术研讨会、北京电机工程学会第十届粒子加速器学术交流会论文集[C];2008年
10 占宁;徐敏;占芬芬;陆昉;;HfAIO薄膜和Si界面区域缺陷的深能级瞬态谱(DLTS)研究[A];第十六届全国半导体物理学术会议论文摘要集[C];2007年
中国重要报纸全文数据库 前1条
1 记者 魏梦杰;七星电子承担国家科技重大项目[N];上海证券报;2011年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 赵之雯;VHF-PECVD技术沉积高生长率微晶硅薄膜及薄膜的稳定性研究[D];河北工业大学;2011年
2 李俊;有机小分子及微晶硅薄膜晶体管研究[D];上海大学;2011年
3 卢焕明;硅基ZnO薄膜与一维ZnO材料的显微结构研究[D];浙江大学;2006年
4 靳瑞敏;中温制备多晶硅薄膜及相关理论问题的探讨[D];郑州大学;2006年
5 王卓;轻气体离子注入Si基材料引起的损伤及其机制研究[D];天津大学;2010年
6 周卫;硅(001)表面上硅化铒纳米结构的扫描隧道电子显微镜研究[D];复旦大学;2005年
7 黄巍;低接触势垒ErSi_(2-x)和YSi_(2-x)薄膜的制备及特性研究[D];复旦大学;2007年
8 凌云;用于相变存储器的硫系化合物及器件研究[D];复旦大学;2006年
9 蒋然;Hf基高k材料的物性表征[D];兰州大学;2007年
10 魏显起;脉冲激光沉积制备ZnO薄膜及其光电性质研究[D];山东师范大学;2007年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 罗浚涛;研究和降低垂直型LPCVD制备氮化硅膜的微粒污染[D];上海交通大学;2013年
2 陈雪萌;用LPCVD法在硅衬底上生长3C-Sic[D];西安理工大学;2002年
3 杨芳;微晶硅薄膜的制备及其性能的研究[D];河北工业大学;2011年
4 齐立敏;微晶硅薄膜的PECVD制备及性能研究[D];上海师范大学;2012年
5 简红彬;a-Si_(1-x)C_x:H薄膜的热壁LPCVD制备与结构特性研究[D];河北大学;2006年
6 刘奇明;微晶硅薄膜的制备及其特性研究[D];兰州大学;2011年
7 何建廷;脉冲激光沉积法生长硅基ZnO及特性研究[D];山东师范大学;2006年
8 赵子文;PLD法制备ZnO薄膜及其特性研究[D];大连理工大学;2007年
9 孙钦军;CuO/SiO_2纳米复合薄膜的制备和特性研究[D];山东师范大学;2007年
10 贺晓彬;砷化镓基磁性半导体特性研究[D];河北工业大学;2007年
 快捷付款方式  订购知网充值卡  订购热线  帮助中心
  • 400-819-9993
  • 010-62791813
  • 010-62985026