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《真空技术与表面工程——第九届真空冶金与表面工程学术会议论文集》2009年
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溅射制备Al_2O_3薄膜的光学性能研究

闫绍峰  骆红  
【摘要】:采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al_2O_3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其它物理特性的方法。对Al_2O_3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长相互关系的分析,获得了Al_2O_3薄膜在400-1100nm区域内的折射率、吸收系数与入射光波长的关系式,以及Al_2O_3薄膜厚度的计算公式。

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