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《第九届真空冶金与表面工程学术会议论文摘要集》2009年
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PVD法制备SiO_x/PET阻隔膜的IR及XPS研究

林晶  孙智慧  刘壮  
【摘要】:在PET基底上采用射频电源,以纯Al为靶,氧气为反应气体,高纯氩气为等离子体磁控溅射高阻隔性Al_xO_y/PET包装薄膜。用红外光谱(IR)分析表明,氧化铝IR谱的峰值、强度和带宽等有规律的变化与通入的氧气量有关。XPS研究发现O-Al-O伸缩振动频率与镀膜中氧和铝值间的关系是:Al-O伸缩振动峰的波数越高,Al_xO_y中氧原子的含量越高。同时测量薄膜的阻隔性显示:Al_xO_y膜的y值越大阻隔性能越好。

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