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Ti/Si共掺杂含氢类金刚石薄膜的摩擦学性能研究

姜金龙  郝俊英  刘维民  
【摘要】:正采用中频磁控溅射TiSi复合靶,在Ar气和CH_4混合气氛中沉积Ti/Si共掺杂含氢类金刚石薄膜。研究不同CH_4流量对类金刚石薄膜的结构和摩擦学性能的影响。利用X射线光电子能谱(XPS)分析薄膜的结构和化学键,在UMT-2MT摩擦磨损试验机上,以钢球为对偶,在2 N载荷下,考察

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