直流磁控溅射制备氧化钒薄膜
【摘要】：正氧化钒薄膜及其在微电子和光电子领域中的应用已成为国际上新颖功能材料研究热点之一。因氧化钒薄膜具有高的电阻温度系数(TCR)值,其阻值随入射辐射引起的温升有非常灵敏的改变,微测辐射热计正是利用了这一特性,因此氧化钒薄膜在红外探测和红外成像方面具
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梁继然;胡明;吕宇强;韩雷;刘志刚;;退火条件对氧化钒薄膜微观结构的影响[J];天津大学学报;2006年12期 |
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杨旭;蔡长龙;周顺;刘欢;;直流磁控溅射制备氧化钒薄膜[J];光学技术;2010年01期 |
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魏雄邦;吴志明;王涛;蒋亚东;;氧化钒薄膜在玻璃基片上的生长研究[J];无机材料学报;2008年02期 |
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吴淼;胡明;吕宇强;刘志刚;;常温直流对靶溅射制备高TCR氧化钒薄膜[J];天津大学学报;2006年07期 |
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魏雄邦;吴志明;王涛;许向东;蒋亚东;;VO_2(B)薄膜的制备及特性优化研究[J];光电子.激光;2008年10期 |
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刘飞飞;唐云;张万里;蒋洪川;司旭;;热处理对TaN薄膜电性能的影响[J];电子元件与材料;2011年02期 |
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吴淼,胡明,温宇峰;基片温度对氧化钒薄膜结构与电性能的影响[J];压电与声光;2004年06期 |
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王彬;赖建军;陈四海;;高TCR氧化钒薄膜研究进展[J];红外与激光工程;2011年05期 |
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周小芳;张辉;李勇;张鹏翔;;氧压对ZnO薄膜电阻温度系数的影响[J];压电与声光;2011年02期 |
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潘梦霄,曹兴忠,李养贤,王宝义,薛德胜,马创新,周春兰,魏龙;氧化钒薄膜微观结构的研究[J];物理学报;2004年06期 |
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堀井和夫;水华;;金属箔电阻器[J];功能材料;1978年05期 |
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王宏臣,易新建,陈四海,黄光,李雄伟;非致冷红外探测器用氧化钒多晶薄膜的制备[J];红外与毫米波学报;2004年01期 |
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林锋;于月光;李世晨;曾克里;任先京;贾贤赏;;含氧气氛直流磁控溅射薄膜铂电阻制备及性能研究[J];金属功能材料;2006年02期 |
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潘永强;;直流磁控溅射Cr/Cr_2O_3金属陶瓷选择吸收薄膜的研究[J];真空科学与技术学报;2006年06期 |
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杨兵初;高飞;刘晓艳;;氮气中退火对ZnO薄膜结构与光学性能的影响[J];半导体光电;2007年03期 |
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李爱丽;王本军;闫金良;孙学卿;秦清松;;薄膜厚度对Cu膜光电性能的影响[J];鲁东大学学报(自然科学版);2008年02期 |
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曾维强;姚建可;贺洪波;邵建达;;基底温度对直流磁控溅射ITO透明导电薄膜性能的影响[J];中国激光;2008年12期 |
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陈林峰;程春晓;;直流磁控溅射制备纳米TiO_2薄膜研究[J];洛阳理工学院学报(自然科学版);2009年01期 |
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李兴鳌;杨建平;左安友;高雁军;袁作彬;任山令;李永涛;;基底温度对直流磁控溅射制备氮化铜薄膜的影响研究[J];材料导报;2010年04期 |
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刘子丽;肖峻;蒋向东;孙继伟;;基片温度对TiO_2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响[J];电子器件;2010年02期 |
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