《真空冶金与表面工程——第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集》2007年

原子层沉积高k介质膜的新进展

【摘要】：本文介绍原子层沉积(ALD)技术的发展背景、特点和原理,阐述发展高k介质的必要性。通过介绍高k介质的特点及其对沉积工艺的要求,说明ALD技术适合于沉积高k介质的原因。着重介绍国际上采用ALD工艺沉积高k介质所取得的最新进展。最后,指出还有待解决的问题和未来的发展趋势。

【作者单位】：华南理工大学电子与信息学院华南理工大学电子与信息学院广东肇庆科润真空设备有限公司广东肇庆科润真空设备有限公司
【分类号】：TB383.2

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2	叶位彬;黄光周;朱建明;戴晋福;;原子层沉积高k介质膜的新进展[A];第八届全国真空冶金与表面工程学术会议论文摘要集[C];2007年
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5	曹慧敏;二氧化钛基复合材料的制备及电化学与光电性能研究[D];华东理工大学;2012年
6	谢钢;纳米/微米氧化物、硫化物的形貌控制和催化性能研究[D];西北大学;2006年
7	牟方志;金属氧化物复杂微纳结构的新制备技术与性能[D];武汉理工大学;2012年
8	于心玉;新型FCC再生烟气硫转移剂的制备、表征及其性能的研究[D];华东师范大学;2007年
9	赵鸣;ZnVSb基压敏电阻陶瓷的低温烧结及电性能研究[D];西北工业大学;2007年
10	梁秋霞;Pd/C催化剂载体表面微环境与前驱体吸附行为研究[D];浙江工业大学;2008年

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1	林爽;低温前驱体裂解法合成碳化硼粉体的研究[D];哈尔滨工程大学;2010年
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3	谢钢;单分子前驱体水热溶剂热合成硫族纳米材料[D];西北大学;2003年
4	孙帆;以六羰基铬为前驱体的激光化学气相沉积薄膜的结构表征及形成机理[D];北京交通大学;2011年
5	李重阳;MgAl_2O_4前驱体在机械活化过程中的键变化研究[D];郑州大学;2011年
6	韩笑;煤沥青基碳纤维的制备与表征[D];安徽理工大学;2011年
7	范辉;微波辐射对浆态床合成甲醇CuO/ZnO/Al_2O_3前驱体微观结构及催化性能的影响[D];太原理工大学;2010年
8	曹俊;直接沉淀-微波焙烧制备纳米氧化锌及其肤色产品的研究[D];湘潭大学;2004年
9	曹怡;Al_2O_3-ZrO_2复合粉的制备研究[D];西安建筑科技大学;2006年
10	许惠;锂离子电池正极材料LiNi_（1-x）Co_xO_2的合成与电性能研究[D];成都理工大学;2004年

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