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《中国真空学会2006年学术会议论文摘要集》2006年
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非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能研究

张琦  尹龙  齐峰  冷永祥  黄楠  
【摘要】:正氮化硅薄膜是具有优良的机械性能、热稳定性能、光电性能、绝缘耐压性能、以及钝化性能等, 不仅在光电子、微电子等大规模集成电路和半导体器件制造中有着广泛的应用,而且在机械行业也有着广阔的应用前景。本文采用非平衡磁控溅射技术,在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化硅薄膜。通过改变氮气和氩

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