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《2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集》2005年
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温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响

王贺权  沈辉  巴德纯  汪保卫  闻立时  
【摘要】:应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制各TiO_2薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为42.6sccm,氧流量为15sccm,溅射时间为30分钟的条件下,通过控制温度改变TiO_2薄膜的光学性质。应用nk Analyzer 1200测量,温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动;温度对消光系数七影响不大;当温度低于180℃薄膜的射率变化不大,当温度达到240℃左右时薄膜的折射率明显降低。通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO_2的体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜的表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细膩平滑。

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