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《TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集》2003年
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用PIXE分析技术测量薄膜厚度分布

王广甫  张荟星  
【摘要】:正 质子激发的X射线能谱分析(PIXE)技术是以一定能量的质子轰击待分析样品,从样品中激发出特证X射线,并用X射线能谱仪测量这些特征X射线的能量和强度,从而确定样品中各元素的种类和含量。它具有灵敏度高、非破坏性、多元素同时分析和分析速度快等优点。本文利用PIXE分析技术对磁过滤阴极真空弧沉积(FVAPD)装置在Al板上合成大面积Ti膜的相对厚度进行了测量,并给出了沉积靶室中不同位置大面积合成Ti薄膜的厚度分布。

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