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《TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集》2003年
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脉冲偏压下的电弧离子镀基体沉积温度的计算预测

白晓  黄美东  林国强  闻立时  
【摘要】:正 脉冲偏压电弧离子镀在低直流偏压保证等离子体中的离子定向运动的条件下,利用高幅值的脉冲偏压和低的占空比可以有效降低沉积温度。基体的沉积温度是影响薄膜质量和使用性能的主要参数之一,它不但限定了用于沉积薄膜的基体材料和范围,而且还影响薄膜的内应力及膜基结合强度。因此,预测并控制基体的沉积温度具有重要的现实意义。本工作在详细分析影响电弧离子镀基体沉积温度的主要因素的基础上,基于

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