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《第十三届全国包装工程学术会议论文集》2010年
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聚乳酸薄膜表面等离子体化学气相沉积SiOx层和阻隔性能研究

张新林  许文才  王正铎  霍俐霞  
【摘要】:利用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在厚度为20μm的PLA基材上制备了阻隔性能优良的高阻隔SiO_x层,无色透明且与基材附着牢固。用FTIR、SEM和AFM表征了沉积SiO_x层的PLA薄膜。结果得到:结构均匀致密,SiO_x层厚度为248nm,氧气透过率从原膜的257.7563cc/[m~2·day]降低到23.72629cc/[m~2·day],水蒸气透过率从原膜的202.9313gm/[m~2·day]降低到18.35087gm/[m~2·day],阻隔性能明显改善。
【作者单位】:北京印刷学院 印刷包装材料与技术北京市重点实验室
【分类号】:TB383.2;TB484

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