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《第十一届全国包装工程学术会议论文集(一)》2007年
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磁控溅射制备硅铝阻隔膜的研究

霍纯青  陈强  孙运金  岳蕾  张跃飞  刘福平  
【摘要】:采用磁控溅射技术以10%Si~90%Al 合金为靶材,通入 O_2将 Si 氧化成 SiO_2,Al 氧化成 Al_2O_3,在普通 PET 薄膜表面制备具有高阻隔性无机阻隔薄膜层,以增加其阻隔性。传统的磁控溅射法制备 SiO_2膜工艺,大多采用射频溅射法,但其成本较高,效率较低,无法充分满足大面积工业化镀膜生产的需要。而采用10%Si~90%Al 合金不仅可以实现直流溅射工艺,而且测量结果表明,薄膜的阻隔性得到大幅度提高。

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【参考文献】
中国期刊全文数据库 前3条
1 叶光,林志贤,郭太良;射频磁控溅射二氧化硅薄膜的工艺探讨[J];龙岩师专学报;2002年06期
2 刘树春;利用SWISS-PROT网获取生物信息学资源[J];生命的化学;2002年01期
3 侯晓波,查良镇,范垂祯,许生;反应溅射制备SiO_2膜的问题及进展[J];真空;1999年06期
【共引文献】
中国博士学位论文全文数据库 前1条
1 郭亚军;轴瓦磁控溅射镀膜技术及其材料力学性能研究[D];哈尔滨工程大学;2002年
中国硕士学位论文全文数据库 前5条
1 叶光;用于场致发射显示的MIM型电子发射结构的研制[D];福州大学;2003年
2 何国金;应用于MIM-FEA的薄膜制备及其表征技术[D];福州大学;2005年
3 孙少妮;减反射薄膜膜系优化设计及工艺研究[D];东北大学;2006年
4 华戟云;钢基表面氧化铝薄膜制备的研究[D];江苏大学;2007年
5 宋文燕;蓝宝石衬底上Si_3N_4膜系的制备工艺与性能研究[D];西北工业大学;2005年
【二级参考文献】
中国期刊全文数据库 前1条
1 萧浪涛;现代生物信息学及其主要研究领域[J];湖南农业大学学报;2000年06期
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