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《2007年全国博士生学术论坛(材料科学与工程学科)论文集》2007年
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采用sol-gel法制备Kapton抗原子氧涂层

张欣  吴宜勇  刘刚  何世禹  
【摘要】:以正硅酸乙酯(TEOS)和异丙醇铝(Al(C_3H_7O)_3)为前驱体,通过溶胶-凝胶法在聚酰亚胺薄膜(Kapton)基体上制备氧化硅和氧化铝涂层,在制备氧化硅涂层时加入γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(MEMO)以提高涂层韧性,在地面模拟原子氧设备上对这些涂层进行原子氧暴露实验。结果表明,氧化硅和氧化铝涂层使 Kapton 基体的原子氧侵蚀速率下降了一个数量级,原子氧暴露前后镀层 Kapton 的光学透过率基本没有改变。扫描电镜 (SEM)、红外衰减全反射光谱(FTIR-ATR)和 X 射线光电子能谱(XPS)分析表明,氧化硅和氧化铝两种涂层经原子氧暴露后分别趋向于向稳定的 SiO_2和γ-Al_2O_3结构转化。氧化硅涂层结构致密,但经原子氧暴露后表面生成的裂纹造成基体被侵蚀;氧化铝涂层韧性较好,但表面存在微孔,经原子氧暴露后表面微孔扩张从而成为原子氧侵蚀基体的途径。

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【参考文献】
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