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《2004年光学仪器研讨会论文集》 2004年
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光学薄膜领域反应磁控溅射技术的进展

闫宏  赵福庭  
【摘要】:光学薄膜领域应用反应磁控溅射技术已有多年,反应磁控溅射对提高薄膜质量及降低工艺成本的作用,已受到业界的重视,正在进入工业生产之中。对光学薄膜领域中反应磁控溅射技术中的相关问题进行了评述,提出了一种可能的方案。

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