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应用ICP-MS技术测定高纯铕中的超痕量稀土杂质

陈登云  裴立文  
【摘要】:正 前言高纯稀土(REE)已被广泛应用于高新科技的各个生产领域,例如显示器、电子元件、光电子器件、超导体、超磁体、陶瓷等。在稀土材料的生产和应用过程中,稀土材料的纯度对价格以及产品的性能有决定性的作用。在稀土材料的提炼的每一个步骤中都需要对材料的纯度进行测定。虽然传统分析方法如中子活化分析、X—射线荧光分析、ICP发射光谱分析等方法已被大量应用、但这些方法都有较大的局限性如分析周期长或检测限差等。ICP-MS技术由于其极低的检测限、干扰小、同时多元素快速分析能力、8—9个数量级的线性动态范围等特性成为目前稀土纯度分析中最具有魅力的技术。

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