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《2011年全国青年摩擦学与表面工程学术会议论文集》2011年
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多孔石英陶瓷上化学气相沉积氮化硅薄膜

刘晓亭  陈茜  罗静  王文宇  陈皓  
【摘要】:文中采用化学气相沉积(CVD)工艺在气孔率不同的块状石英材料基体上制备氮化硅薄膜并对所得产品进行了扫描电子显微镜(CEM)及傅立叶变换红外光谱(FTIR)表征,实验结果显示,在较短的沉积反应时间内即可在多孔基体表面形成较为致密的氮化硅薄膜,气孔密封效果良好。
【作者单位】:装甲兵工程学院再制造技术重点实验室
【分类号】:TB383.2

【参考文献】
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【共引文献】
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