光刻工艺中预曝光技术机理分析与应用研究
【摘要】：分析了预曝光技术运用机理,研究了光刻工艺中的预曝光技术。在连续型菲涅尔衍射透镜光刻工艺中,应用了预曝光技术,制作出了较为理想的连续型浮雕结构。
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| 1 |
邵燕,姜劲松,许朝荣;聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶的合成[J];上海化工;1999年Z1期 |
| 2 |
;海外化工[J];上海化工;2004年02期 |
| 3 |
白宗武，张秋红，黄小力，黄毓礼;光敏聚酰亚胺光刻胶及光刻工艺的研究[J];感光科学与光化学;1995年04期 |
| 4 |
;电子化学品[J];精细与专用化学品;2001年11期 |
| 5 |
侯豪情,李悦生,丁孟贤,韩阶平;光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展[J];功能高分子学报;1996年02期 |
| 6 |
刘鹏;;HBT-G型光刻胶的研制[J];浙江化工;1987年04期 |
| 7 |
郑金红;;光刻胶的发展及应用[J];精细与专用化学品;2006年16期 |
| 8 |
郑金红,黄志齐,文武;ULSI用193nm光刻胶的研究进展[J];精细化工;2005年05期 |
| 9 |
;光刻胶LQ-2研制报告[J];浙江化工;1979年03期 |
| 10 |
魏杰,黄毓礼;激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光过程的研究[J];感光科学与光化学;1998年04期 |
| 11 |
孟珺遐;微生物加工微细构件的问题分析和研究[J];现代制造工程;2005年10期 |
| 12 |
;道康宁计划将硅树脂产能翻番[J];有机硅氟资讯;2008年03期 |
| 13 |
马望京;赵艳艳;段培成;李智;;传统卤化银感光材料的生产工艺与集成电路制造工艺比较研究[J];影像技术;2008年04期 |
| 14 |
郭紫贵;凡进军;;基于电场分析的掩膜电解加工试验研究[J];机械科学与技术;2011年06期 |
| 15 |
;新的聚乙烯醇光刻胶[J];化工新型材料;1979年12期 |
| 16 |
梁广和;金章岩;;高感度、高分辨率聚酯型光致抗蚀剂—聚呋喃丙烯叉丙二酸-1,3-丙二酯的研制及其应用[J];福建师范大学学报(自然科学版);1988年01期 |
| 17 |
喻小琦，马存恕;光刻胶针孔密度测试方法－透射铬版法的研究[J];感光科学与光化学;1994年03期 |
| 18 |
何坤荣;新世纪全球电子化学品发展走势[J];精细与专用化学品;2001年18期 |
| 19 |
洪啸吟,李钟哲,刘丹,吴兵,卢建平,段生权,陈明,王培清;无显影气相光刻(DFVP)研究的进展[J];高分子通报;2002年03期 |
| 20 |
张玉军;郑岩;张明艳;;环化聚丁二烯的合成及其在光刻胶中的应用[J];化学与粘合;2006年03期 |
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