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《第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集》2006年
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a-CN_xH薄膜的摩擦学性能研究

郝俊英  刘维民  
【摘要】:正氮化碳薄膜(Carbon nitride films)是以理论预言为基础、自然界尚未发现的人工合成材料之一.由于其具有很多优异的性能而备受材料学家的青睐.非晶氮化碳(a-CNxH)薄膜是其中的一种.1990 年,Muller首次报道了a-CNxH薄膜具有高的抗磨性能和极低的摩擦系数.随后十几年,人们开始对其摩擦学性能进行研究.然而,由于a-CNxH薄膜对制备工艺和沉积条件的依赖性,以及摩擦试验中所用条件的不同,所得结论不尽相同.本文用自行研制的DC-RF-PECVD制备了a-CNxH薄膜,并探讨了不同对偶材料对薄膜摩擦性能的影响.

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