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《第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集》2006年
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Ti掺杂DLC薄膜的制备及其结构研究

王鹏  陈友明  张广安  刘维民  张俊彦  
【摘要】:利用阴极磁过滤,分别在不锈钢(1Cr18Ni9Ti)和单晶硅基体上制备Ti掺杂复合DLC (TiC/a-C:H)薄膜,分别利用Raman光谱、XPS和IR对薄膜组成及其结构进行了分析,利用纳米压入对薄膜力学性能进行了研究。结果表明:制备的Ti掺杂DLC薄膜,具有典型的含氢类金刚石薄膜的特征;薄膜表面均匀致密;CH4气体流量小于40Sccm时,薄膜中没有sp杂化C出现,随着CH4气体流量的增加,薄膜中sp3含量增加。增大基底偏压,薄膜中键合H原子含量下降,在-150V制备的薄膜具有最小的ID/IG值,硬度达到16.9Gpa。

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