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《第三届中国热处理活动周暨第六次全国热处理生产技术改造会议论文专辑》 2005年
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偏压对镁合金表面磁控溅射CrAlTiN膜层的影响

陈迪春  蒋百灵  
【摘要】:使用闭合场非平衡磁控溅射离子镀体系于镁合金表面制备了CrAlTiN膜层,检测了膜层厚度和硬度,在扫描电子显微镜(SEM)下观察了膜层的表面形貌和截面形貌,使用了X衍射仪分析了膜层的相组成。结果表明:薄膜组织为纤维状柱状晶组织,随着偏压增大,膜层表面致密性增强,颗粒头部平滑,颗粒间孔洞减少;CrAlTiN薄膜具有与CrN相同的晶体结构,在偏压为40V时出现了(11)晶面的择优取向,在60V时出现了(220)晶面的择优取向。

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