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《全国第十二次光纤通信暨第十三届集成光学学术会议论文集》2005年
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用于制作光纤光栅相位掩模的衍射特性分析

刘全  吴建宏  陈刚  方玲玲  
【摘要】:本文利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现,为了使零级衍射效率小于5%,且正负一级的衍射效率大于35%,相位掩模的刻槽深度必须控制在230—280nm,占宽比必须控制在 0.48~0.65。同时与标量衍射理论的结果进行了分析对比。这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果。
【作者单位】:苏州大学信息光学工程研究所 苏州大学信息光学工程研究所 苏州大学信息光学工程研究所 苏州大学信息光学工程研究所
【关键词】:相位掩模 光纤光栅 衍射效率 严格耦合波理论
【分类号】:TN253
【正文快照】:
一、引言 光纤光栅技术是当前光纤通信、光纤传感、光信息处理领域的一个全球性热门课题。是 继20世纪70年代低损耗光纤,80年代掺饵光纤放大器(EDFA)之后光纤领域中具有里程 碑意义的第3次重大技术突破。近年来,光纤光栅在光纤通信和传感技术领域中得到了越来 越广泛的应用

【参考文献】
中国期刊全文数据库 前1条
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【共引文献】
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