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《全国第十次光纤通信暨第十一届集成光学学术会议(OFCIO’2001)论文集》2001年
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一种新型投影光刻系统的光学特性研究

崔崧  阮驰  高应俊  
【摘要】:与传统的近贴式光刻相比,微透镜阵列投影光刻是一项新兴的光刻技术.针对大面积光刻,特别是对那些面形有微变曲或不平整的器件,采用这种非接触式方法可以获得良好的像质和更大的工作距离.本文介绍了一种由四片微透镜阵列叠合而成的1:1成像的多孔径微小光刻系统.从光线光学理论出发,分析了综合成像的特点,讨论了这种光刻成像系统的性能,并给出了实验测量方法.本文还简单介绍了这种用于深紫外光刻的微透镜阵列的微加工工艺.

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