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《中国空间科学学会空间材料专业委员会’2004学术交流会论文集》2004年
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反应温度对聚二甲基硅烷高压合成聚碳硅烷特性的影响

程祥珍  谢征芳  宋永才  肖加余  王应德  
【摘要】:本文以聚二甲基硅烷(PDMS)为原料,在高压釜内高温高压合成了聚碳硅烷(PCS)先驱体。研究了反应温度对合成的PCS的Si-H键含量、支化度、Si-Si键含量、分子量及其分布的影响。研究表明,随着反应温度的提高,分子量明显增加,分子量分布变宽,支化度升高,Si-Si键含量明显降低。当反应温度低于460℃时,Si-H键含量及产率随反应温度的升高逐渐升高,当反应温度高于460℃时,由于分子间的缩合及热交联二者逐渐降低。当反应温度高于450℃时,PCS分子量分布出现中分子量峰,Si-Si键含量较低,在室温空气中比较稳定。

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【参考文献】
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【共引文献】
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