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深紫外非线性光学材料的预测及性能研究

卞强  杨志华  潘世烈  
【摘要】:正非线性光学材料,特别是深紫外区域(λ200 nm)的非线性光学材料,一直是材料学界研究的热点。理论计算方法探索新材料能够减少传统材料合成的不确定性因素,缩短实验周期,降低实验成本。随着计算机、工作站、服务器计算性能的提升,基于计算机数值模拟的材料设计研究日趋成为加速新材料开发进程的有效途径。基于前期对系列非线性光学晶体材料结

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