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《2006年全国冶金物理化学学术会议论文集》2006年
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基体清洗法测定CeO_2在载体γ-Al_2O_3表面的分散阀值

郁青春  张世超  王新东  
【摘要】:CeO2在Y-Al2O3载体表面分散阀值的确定对于提高CeO2的利用率具有重要的现实意义。用浸渍法制备了CeO2/γ-Al2O3催化剂, XRD分析表明随着负载量的增加,CeO2的衍射峰强度也随之增加。选取衍射峰不与CeO2衍射峰重叠且具有良好的稳定性的NiO作为参比物质,用基体清洗法计算CeO2的单层分散阀值为0.125 g/g(γ-Al2O3),浸渍时间影响单层分散阀值的大小。

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【参考文献】
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